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改善UHV／CVD外延生长环境提高GeSi／Si材料性能有效方法

雷震霖、于卓

1999Acta Scientiarum Naturalium Universitatis SunyatseniEngineering被引 0

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引用本文（GB/T 7714）

雷震霖, 于卓. 改善UHV／CVD外延生长环境提高GeSi／Si材料性能有效方法[J]. Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Sunyatseni, 1999.

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