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原子气相沉积 原理、表征以及纳米技术应用，第2版
Yufei Zhao
2013国外科技新书评介Engineering被引 0
摘要
本书是继2008年ArthurSherman出版的“原子气相沉积”一书（ALD，AtomicLayerDeposition）的第2版。本书介绍了ALD在工程和工业应用方面的最新进展。
引用本文（GB/T 7714）
Yufei Zhao. 原子气相沉积 原理、表征以及纳米技术应用，第2版[J]. 国外科技新书评介, 2013.
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