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GeSi/Si PIN红外探测器的漏电现象分析

L. Nuo Nuo刘恩科

1998Acta Scientiarum Naturalium Universitatis SunyatseniEngineering被引 0

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摘要

根据半导体理论并结合实验结果,分析了以GeSi/Si超晶格为吸收材料的PIN红外探测器的漏电现象,结果表明,当锗含量x=0.6时,探测器的暗电流密度可达到10^-5A/cm^2,这是由超晶格的禁带宽度决定的,实际器件的暗电流较大,主要是表面因素和加工工艺的影响。

引用本文(GB/T 7714)

L. Nuo Nuo, 刘恩科. GeSi/Si PIN红外探测器的漏电现象分析[J]. Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Sunyatseni, 1998.

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