Tb—Fe—Co磁光薄膜溅射条件对Kerr转角的影响
摘要
在实际磁光盘生产线上大都使用合金溅射靶溅射记录介质膜,而尚未有直接使用合金靶研究这些关系的报道.我们首先研制了用于磁光溅射的系列合金靶,并完善了靶材制造工艺参数,且在此基础上进行了成分以及溅射参数对各种磁光性能影响的研究.首先确定了各种溅射功率和N2-Ar气流量下Al、Si以及Tb-Fe-Co(Mo)的溅射速率,在此基础上通过改变溅射功率和调整气流量改变SiN的成分和厚度.在各种功率和气流量下溅射了Mo膜,并测定了这些磁光膜的Kerr回线以获得Kerr转角等性能,从而探讨了溅射工艺条件对Kerr的影响.
引用本文（GB/T 7714）
张喜燕, 刘志农, 陈志武. Tb—Fe—Co磁光薄膜溅射条件对Kerr转角的影响[J]. 功能材料, 2001.
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