NixSiO2（1—x）颗粒膜的光学和磁光特性研究
摘要
用磁控溅射法制备了一系列NixSiO2(1-x )样品,并对部分样品作快速退火处理,室温下采用椭圆偏振光谱仪和磁光谱仪分别在1.5 ～4.5eV的光子能量区测量了样品的复介电常数谱和极向复磁光克尔谱,研究了这种金属-绝 缘体型颗粒膜的光学和磁光性质.发现调整合适的金属含量或对样品作退火处理,可以观察到 复介电常数的实部从正到负的连续变化,而且在一定光子能量区,其值为零;介电张量的非对 角元和光学常数对其磁光克尔角的增强起重要作用.
引用本文（GB/T 7714）
张荣君, 李合印, 朱晓松, 等. NixSiO2（1—x）颗粒膜的光学和磁光特性研究[J]. Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Sunyatseni, 2001.
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