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Bi4(SiO4)3晶体结构的X射线粉末衍射研究

刘红超吕光烈

1996Acta Scientiarum Naturalium Universitatis SunyatseniEngineering被引 0

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摘要

在X射线衍射仪上收集了Bi4(SiO4)3的衍射数据;利用Rietveld方法对衍射数据进行指标化,F30=158.90;确定了Bi4(SiO4)3的晶体结构参数。结果发现:该结构中硅氧四面体是变形的孤立四面体,其中两个O-Si-O键角为107.13°,而另两个为114.26°,详细报道了晶体结构,给出了晶体结构图;提出Bi离子最外层孤对的6s^2电子的存在是形成这种变形配位多面体的原因。

引用本文(GB/T 7714)

刘红超, 吕光烈. Bi4(SiO4)3晶体结构的X射线粉末衍射研究[J]. Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Sunyatseni, 1996.

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